【技术特点】-- 美国Laurell湿法刻蚀显影机EDC-650Mz-23NPP

一、产品概述：
    650型匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。

二、匀胶显影机工作原理：
显影系统具有可编程阀，它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻、显影和清洗应用的要求重复进行，如冲洗（通常是去离子水或溶剂），然后干燥（通常是氮气）等最后的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在完全干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。匀胶显影机还有可选择的动态线性或径向滴胶的特性。

【技术特点对用户带来的好处】-- 美国Laurell湿法刻蚀显影机EDC-650Mz-23NPP

【典型应用举例】-- 美国Laurell湿法刻蚀显影机EDC-650Mz-23NPP