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美国恩科优N&Q系列光刻机4008

tel: 400-6699-117 1000

劳瑞恩半导体专用检测仪器设备, 恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。

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恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的首选;

 

 


二、技术参数:

1、芯片尺寸:5mm~200mm的圆片/方片和不规则碎片(支持对不规则碎片的特殊卡盘设计);

2、曝光波长:350nm-450nm(其它波长可选配);

3、汞灯功率:350W/500W(其它功率可选配);

4、分辨率:优于0.5um;

5、曝光模式:支持接近式曝光,各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光;

6、出射光强范围:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;

7、支持恒定光强或恒定功率模式;

8、曝光时间:0.1~999.9s;

9、对准精度:双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器,对准精度可达到0.4微米内;

10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器);

11、光强均匀性Uniformity:

<±1% over 2” 区域;

<±2% over 4” 区域;

<±3% over 6” 区域;

12、双面光刻:具备背面红外对准(IR BSA)和光学背面对准(OBS BSA),双面对准精度≤2μm;

13、电源:高灵敏度光强可控电源。

可选型号:

NXQ400-6 

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8

 


产品相关关键字: 恩科优光刻机 紫外曝光机 掩膜曝光机 掩膜对准曝光系统 全自动光刻机


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