技术特点
【技术特点】-- 美国恩科优N&Q系列光刻机4008
三、产品特点:
可选支持单面对准和双面对准设计;
高清晰彩色双CCD镜头采用最先进的分裂视场显微镜镜头(基于无限远修正的CCD镜头设计);双头高清全彩物镜(单视场或分裂视场可供用户灵活选择);
高清彩色双显示屏;
全新气动轴承导轨设计,高精准,低磨损,无需售后维护的;
具有自动执行楔形误差补偿,并在找平后自动定位功能;
操作简易,具有支持多操作员同台使用的友好操作界面;
操控手柄调控模式的独特设计;
采用LED穿透物镜照明技术,具有超强对准亮度;
采用基于无限远修正的显微镜镜头架构;
抗衍射反射的高效光学光路设计;
带安全保护功能的温度和气流传感器;
全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度;
设备稳定性,耐用性超高;
产品相关关键字: 恩科优光刻机 紫外曝光机 掩膜曝光机 掩膜对准曝光系统 全自动光刻机 |
【技术特点对用户带来的好处】-- 美国恩科优N&Q系列光刻机4008
【典型应用举例】-- 美国恩科优N&Q系列光刻机4008
请扫描二维码查看详细参数
半导体专用检测仪器设备
售后服务
我会维修/培训/做方法
如果您是一名工程师或者专业维修科学 仪器的服务商,都可参与登记,我们的平台 会为您的服务精确的定位并展示。