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4H-SiC上镀4H-SiC薄膜

tel: 400-6699-117 1000

合肥科晶其它, dia4" ±0.5 mm x 0.525 ±0.025 mm

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技术特点

【技术特点】-- 4H-SiC上镀4H-SiC薄膜

产品名称:

4H-SiC上镀4H-SiC薄膜P型(4H-SiC?Epitaxial?Film?on?4H-SiC,?P?type)

常规尺寸:

dia4“ ±0.5 mm  x 0.525 ±0.025 mm 

技术参数:

4H-SiC薄膜晶向:<0001>

4H-SiC薄膜厚度(film target thickness):4.3um ±10%

4H-SiC薄膜厚度(film target doping layer) :1.4E17/cc +0% /- 30%

载流子浓度:(3~ 10)E16 /cc

导电类型:P型

抛光情况:双面抛光

4H-SiC基片晶向:<0001>miscut 8.0 +/- 0.5 degree,parallel(10-10);OF length: 15.9 +/- 1.7 mm

4H-SiC基片尺寸: dia 2 inch x330±25unIF orientation :90 degree cw. from OF +/- 5 degreeIF length:8.0 +/- 1.7 mm

4H-SiC基片电阻率:< 0.03 ohm-cm

4H-SiC抛光:Si面CMP单抛边缘排除:1mm

 

标准包装:

1000级超净室100级超净袋真空包装或单片盒装



【技术特点对用户带来的好处】-- 4H-SiC上镀4H-SiC薄膜


【典型应用举例】-- 4H-SiC上镀4H-SiC薄膜



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