技术特点
【技术特点】-- 氮化铝(AlN)薄膜
产品名称: | 氮化铝(AlN)薄膜 |
产品简介: | AllN Epitxial范本saphhire提出了氢化物气相外延(HVPE)的方法。氮化铝薄膜又是成本效益的方法,用来取代氮化铝单晶衬底。科晶真诚欢迎您的垂询! |
技术参数: | 尺寸 dia50.8mm±1mm蓝宝石衬底取向 c轴(0001)±1.0deg 衬底: Al2O3;SiC;GaN 薄膜厚度:10-5000nm 导电类型: 半绝缘型位错密度:XRD FWHM of <0002><500arcsec;XRD FWHM of <10-12><1500arcsec;有效面积:>80% 抛光:单抛光
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产品规格:
| 氮化铝(蓝宝石衬底):dia2“*1500nm±10%
注:可根据客户需求定制特殊的方向和尺寸。 |
标准包装: | 1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装 |
【技术特点对用户带来的好处】-- 氮化铝(AlN)薄膜
【典型应用举例】-- 氮化铝(AlN)薄膜
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