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氮化铝(AlN)薄膜

tel: 400-6699-117 1000

合肥科晶其它, 1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装......

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技术特点
【技术特点】-- 氮化铝(AlN)薄膜

产品名称:

氮化铝(AlN)薄膜

产品简介:

AllN Epitxial范本saphhire提出了氢化物气相外延(HVPE)的方法。氮化铝薄膜又是成本效益的方法,用来取代氮化铝单晶衬底。科晶真诚欢迎您的垂询!

技术参数:

尺寸 dia50.8mm±1mm蓝宝石衬底取向 c轴(0001)±1.0deg

衬底: Al2O3;SiC;GaN

薄膜厚度:10-5000nm

导电类型: 半绝缘型位错密度:XRD FWHM of <0002><500arcsec;XRD FWHM of <10-12><1500arcsec;有效面积:>80%

抛光:单抛光

 

  产品规格:

 

氮化铝(蓝宝石衬底):dia2“*1500nm±10%

 

注:可根据客户需求定制特殊的方向和尺寸。

标准包装:

1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装



【技术特点对用户带来的好处】-- 氮化铝(AlN)薄膜


【典型应用举例】-- 氮化铝(AlN)薄膜


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地址:安徽省合肥市科学院路10号

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