| 项目 | 内容 | |
|---|---|---|
| 分辨率 |
1.2 nm @ 30 kV 3.0 nm @ 1 kV 2.0 nm @ 1 kV 减速模式*1 3.0 nm @ 15 kV 低真空模式*2 | |
| 放大倍率 |
10 - 600,000× (底片倍率), 18 - 1,000,000× (800 × 600 像素) 30 - 1,500,000× (1,280 × 960 像素) | |
| 电子光学系统 | 电子枪 | ZrO /W 肖特基式电子枪 |
| 加速电压 | 0.5 - 30 kV (0.1 kV 步进) | |
| 着陆电压 | 减速模式: 0.1 - 2.0 kV ＊1 | |
| zei大束流 | > 200 nA | |
| 探测器 | 低位二次电子探测器 | |
| 低真空模式*2 | 真空范围: 10 - 300 Pa | |
| 马达台 | 马达台控制 | 5 - 轴自动 (优中心) |
| 可动范围 |
X：0～100mm Y：0～50mm Z：3～65mm T：-20～90° R：360° | |
| zei大样品尺寸 |
zei大直径: 200 mm zei大高度: 80 mm | |
| 选配探测器 |
| |
*1：减速功能（包含高分辨率顶位二次电子探测器）
*2：低真空功能（包含5分割半导体探测器）
*3：空压机(本地采购)
【主要参数】
| 电子枪 | ZrO/W 肖特基式场发射电子枪 |
| 加速电压 | 0.5~30kV |
| 着陆电压 | 0.1~2kV |
| 分辨率 | 2.0nm@1kV（*1）、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式（*2） |
| 放大倍率 | 底片倍率：10~600000倍、显示倍率：18~1000000倍 |
| 5轴马达台 | X：0~100mm、Y：0~50mm、Z：3~65mm、T：-20~90°、R：360° |
*1：减速模式是选配项 *2：低真空模式是选配项
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