日立高新SU8200系列场发射扫描电子显微镜

创新型冷场发射电子枪具有超高分辨率和电子束稳定性

这种新型的冷场发射电子枪采用日立zl的“柔性闪烁”“Mild flashing”技术和全新改进的真空系统，在发射极尖端极大限度减少气体分子附着。 

发射极始终运行于“洁净”的状态，发射电流和电子束稳定性显著提升。 即使在低加速电压下，也可以得到高信噪比的SEM信号并进行高分辨观察。 

这些增强性能开辟了低电压下元素微量分析的全新里程。

SU8200系统具备全新设计的顶端过滤器，可增强电子检测特性。

通过选择性地过滤非弹性散射电子和直接检测特定能量的背散射电子，可实现良好的对比度。

这种选择性的过滤，在提高低加速电压下成分对比度方面尤为强大。

样品台和样品室的防震措施以及光学系统的优化有助于提高分辨率：15 kV时0.8 nm，1 kV时 1.1 nm。

特点：

• 创新型冷场发射枪可产生超高亮度和稳定的探针电流，适用于高分辨率、低电压下观察和元素分析（利用电子枪轰击后的高亮度稳定期，高分辨观察和分析兼顾）

• 大幅提高分辨率(1.1 nm/1 kV, 0.8 nm/15 kV)

• 超高真空发射枪和样品室，将样品污染降至zei低（减轻污染的高真空样品仓）

• 选配顶端过滤器，可实现良好的成分对比度（通过顶部过滤器(选配项)实现多种材料对比度可视化）

日立高新场发射扫描电子显微镜SU8200系列（HITACHI UHR FE-SEM SU8200 Series，SU8220，SU8230，SU8240）采用日立高新技术公司全新开发的冷场电子枪，实现超高分辨率下观察的同时，稳定的束流亦可满足长时间下的分析需求。

在日立高新的新型冷场发射扫描电镜(FE-SEM)SU8200系列中，有SU8220、SU8230、SU8240三款机型，于5月20日开始发售。

应用数据

高分辨率成像

样品:介孔二氧化硅纳米球
着陆电压：500 V
样品提供者：东京工业大学，助教 横井俊之

高空间分辨率X射线微量分析

样品：Au/Cu₂O　核-壳纳米立方体
EDX图谱条件：5 kV, 0.7 nA, 15 min, 150,000×
样品提供者：京都大学化学研究所，教授 寺西利治