技术特点
【技术特点】-- AL2O3+Ga2O3-ß薄膜
产品名称: | AL2O3+Ga2O3-?薄膜(Ga2O3-??EPI?Film?(?400nm)?on?Sapphire) |
技术参数: | 生长方法:Spin coating + Annealing Ga2O3-?参数:textured along (201); 膜厚~ 400 nmAl2O3 薄膜参数:<0001> 10x10x0.5mm 单抛
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产品尺寸: | 10x10x0.5mm |
标准包装: | 1000级超净室100级超净袋真空包装 |
【技术特点对用户带来的好处】-- AL2O3+Ga2O3-ß薄膜
【典型应用举例】-- AL2O3+Ga2O3-ß薄膜
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