技术特点
【技术特点】-- Si上镀Cu薄膜(进口Cu coated Si Wafer )
产品名称: | Si上镀Cu薄膜(Cu?coated?Si?Wafer?) |
技术参数: | 薄膜厚度:400nm highly oriented poly crystalline Cu <111> Si基底尺寸: dia4”x0.525mm Si参数:P型掺B, <100> ,单抛, 电阻率:1-20 ohm-cm 表面粗糙度: as grown , N/A
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产品规格: | dia 4 inch or 10x10mm
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标准包装: | 1000级超净室100级超净袋真空封装或者单片盒装 |
【技术特点对用户带来的好处】-- Si上镀Cu薄膜(进口Cu coated Si Wafer )
【典型应用举例】-- Si上镀Cu薄膜(进口Cu coated Si Wafer )
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