OTF-1200X-4-NW-UL是一款用于CVD实验的小型管式炉,常用生长纳米线和各种薄膜。设备左端设计有一反应前驱体预热区,并在预热炉体上安装有各种接口。可导入气体、液体和放入固体反应物。主反应炉体中有一3英寸的样品台,用于盛放基片,样品台与右端滑轨法兰连接,以便于实验操作。
技术参数
工作温度 | 主反应炉体:
预热区:
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温控系统 |
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密封法兰 | 主反应炉体 右端法兰:
左端法兰(主反应炉体和预热炉体之间)
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重量 | 110kg |
仪器尺寸 |
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CVD管式炉(含预热腔体)-- OTF-1200X-4-NW 的一般经销商信息,有可能该产品在中国没有其它经销商。
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