技术指标
工作方式：磁控溅射
外形尺寸：424(L)×271(D)×255(H)mm
极限真空：＜1Pa
溅射靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等
工作介质：空气或氩气
真空室：高硅硼玻璃φ128×100mm
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经销商
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离子溅射仪
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