EMS150 T离子溅射镀膜仪

重量

33.4KG

工作腔室

150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩

触摸屏用户界面

带有触摸按钮的全图像界面，包含多达十个镀膜程序，可提醒何时需要维护

工作腔室

150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩

样品台

转速为8-20rpm的旋转台

真空系统

涡轮子分子泵：带有内部空气却的涡轮分子泵，抽速为70L/s

旋转机械泵：抽速为50L/m的两级旋转机械泵，带有油污过滤器

真空测量

皮拉尼真空计作为标配

极限真空度

10^-5mbar两级

电源需求

90-250V~50/60Hz 1400VA（ 包括旋转机械泵电压240V）

气体

溅射工作气体氩气，99.999%（TS和TES版本）；氮气，放气破真空气体（可选）

金属蒸发和光阑清洁头

用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑

碳蒸发

稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳

电流脉冲

1-90安培

溅射

0-150mA。可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器

溅射工作真空范围

5*10^-3到5*10^-1mbar

溅射靶材和碳耗材供应

EMS150TS和EMS150TES标配铬靶，但可选用的其它靶材范围很宽，包括那些广泛用于SEM制样的靶材，如：Au金靶，Au/pd金钯，Pt铂靶，和Iridium铱靶。对非SEM应用，可选用的靶材包括：AI铝，Ta钽，ITO氧化铟锡，Fe铁，W钨，Ti钛，等等：碳制品包括高纯度碳丝。