Phenom Pro 主要技术参数
光学放大 | 20 - 135 X |
电子放大 | 80 - 150,000 X |
分辨率 | 优于 8 nm |
数字放大 | Max. 12 X |
光学导航相机 | 彩色 |
加速电压 | 5 Kv - 15 Kv 连续可调 |
真空模式 | 高分辨率模式;降低荷电效应模式 |
探测器 | 背散射电子探测器;二次电子探测器(选配) |
样品尺寸 | zei大直径 32 mm |
样品高度 | zei高 100 mm |
背散射电子图像分辨率:优于 8 nm
加速电压:5-15KV
放大倍数:20-150,000x
仪器种类:六硼化铈
探测器:高灵敏度四分割背散射电子探测器
灯丝材料:1,500 小时 CeB6 灯丝
分辨率:优于 8 nm @ 10kV
放置环境:采用专业防震设计,可摆放于普通实验室或办公室、厂房
加速电压:5kV-15kV 连续可调
抽真空时间:小于 15 秒
Phenom Pro | Phenom ProX | Phenom XL | |
光学放大 | 20 - 135 X | 20 - 135 X | 3 - 16 X |
电子光学放大 | 80 - 150,000 X | 80 - 150,000 X | 80 - 100,000 X |
分辨率 | 优于 8 nm | 优于 8 nm | 优于 14 nm |
数字放大 | Max. 12 X | Max. 12 X | Max. 12 X |
光学导航相机 | 彩色 | 彩色 | 彩色 |
加速电压 | 5 Kv - 15 Kv 连续可调 | 5 Kv - 15 Kv 连续可调 | 5 Kv - 20 Kv 连续可调 |
真空模式 | 高分辨率模式 | 高分辨率模式 | 高分辨率模式 |
降低荷电效应模式 | 降低荷电效应模式 | 降低荷电效应模式 | |
高真空模式 | |||
探测器 | 背散射电子探测器 | 背散射电子探测器 | 背散射电子探测器 |
二次电子探测器 (选配) | 二次电子探测器 (选配) | 二次电子探测器 (选配) | |
样品尺寸 | zei大直径 32 mm (Ø) | zei大直径 32 mm (Ø) | zei大 100 mm X 100 mm |
可同时装载 36 个 0.5 英寸样品台 | |||
样品高度 | zei高 100 mm | zei高 100 mm | zei高 65 mm |
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经销商
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