技术特点
【技术特点】-- NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀
铝质腔体或不锈钢腔体
不锈钢立柜
水冷及加热的RF样品台
大自偏压
淋浴头气流分布
涡轮分子泵
无绕曲气体管路
自动下游压力控制
终点监测
气动升降顶盖
自动上下载片
预真空锁
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
菜单驱动,4级密码访问保护
完全的安全联锁
可选ICP离子源以及低温冷却样品台,用于深硅刻蚀
【技术特点对用户带来的好处】-- NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀
【典型应用举例】-- NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀
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