有机物以及无机物的残留物去除
光刻胶剥离或灰化
去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用
清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架
提高黏附性,消除键合问题
塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能
产生亲水或疏水表面
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那诺-马斯特电子束刻蚀, NANO-MASTER 等离子灰化和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。
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