光谱终点监测系统
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21”立方的电抛光不锈钢腔体
自动上下片
1200L/Sec涡轮分子泵
冷泵配置
增加MFC用于反应气体实现RIBE
栅格式RFICP离子源
中空阴极或灯丝中和器
溅射源用于钝化层沉积
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那诺-马斯特电子束刻蚀, NANO-MASTER的离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。
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