技术特点
【技术特点】-- NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀
NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品特点:
优化的14”立方的电抛光不锈钢腔体
水冷±90°自动倾斜旋转基片夹具
带不锈钢气体管路及气动截止阀的MFC
直流离子源1cm-16cm
6”基片的刻蚀均匀度±1.2%
能够控制基片温度在50°C以内
26”x44”占地面积的不锈钢柜体,非常适用于百级超净间
基于计算机的全自动工艺控制,菜单驱动
LabVIEW友好用户界面
EMO和安全互锁
【技术特点对用户带来的好处】-- NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀
【典型应用举例】-- NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀
请扫描二维码查看详细参数
经销商
除厂家/中国总经销商外,我们找不到 NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀 的一般经销商信息,有可能该产品在中国没有其它经销商。
如果您是,请告诉我们,我们的邮件地址是:sales@antpedia.net 请说明: 1.产品名称 2.公司介绍 3.联系方式 |
售后服务
我会维修/培训/做方法
如果您是一名工程师或者专业维修科学 仪器的服务商,都可参与登记,我们的平台 会为您的服务精确的定位并展示。