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NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀

tel: 400-6699-117 1000

那诺-马斯特电子束刻蚀, NANO-MASTER的离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源......

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技术特点

【技术特点】-- NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀


NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀产品特点

  • 优化的14”立方的电抛光不锈钢腔体

  • 水冷±90°自动倾斜旋转基片夹具

  • 带不锈钢气体管路及气动截止阀的MFC

  • 直流离子源1cm-16cm

  •  6”基片的刻蚀均匀度±1.2%

  •  能够控制基片温度在50°C以内

  •  26”x44”占地面积的不锈钢柜体,非常适用于百级超净间

  •  基于计算机的全自动工艺控制,菜单驱动

  •  LabVIEW友好用户界面

  •  EMO和安全互锁





【技术特点对用户带来的好处】-- NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀


【典型应用举例】-- NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀



厂家资料

地址:(香港)香港上环苏杭街84号华威大厦6楼601室

电话:400-6699-117 转 1000

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