技术特点
【技术特点】-- NIE-4000 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
离子束中和器
氩气MFC
步进电机控制晶圆片倾斜
自动上下载晶圆片
磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
菜单驱动，4级密码访问保护
完整的安全联锁
【技术特点对用户带来的好处】-- NIE-4000 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
【典型应用举例】-- NIE-4000 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
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经销商
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