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NDR-4000 (A) 全自动DRIE深反应离子刻蚀

tel: 400-6699-117 1000

那诺-马斯特电子束刻蚀, 全自动上下载片,带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统,带8" ICP源。在低温刻蚀的技术下,系统可以达到硅片的高深......

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技术特点
【技术特点】-- NDR-4000 (A) 全自动DRIE深反应离子刻蚀


  • 基于PC控制的紧凑型立柜式百级DRIE深硅刻蚀系统,拥有高纵横比的刻蚀能力;

  • 配套Lab View软件,菜单驱动,自动记录数据;

  • 触摸屏监控;

  • 全自动系统,带安全联锁;

  • 四级权限,带密码保护;

  • 自动上下载片;

  • 带Load Lock预真空锁;

  • He气背面冷却,-60摄氏度的低温样品夹具;

  • 高达-1000V的外部偏压;

  • 涡轮分子泵 + 涡旋干泵;

  • 可以支持DRIE和RIE两种刻蚀模式;

  • 实时显示真空、功率、反射功率图表,以及流量实时显示;



【技术特点对用户带来的好处】-- NDR-4000 (A) 全自动DRIE深反应离子刻蚀


【典型应用举例】-- NDR-4000 (A) 全自动DRIE深反应离子刻蚀


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地址:(香港)香港上环苏杭街84号华威大厦6楼601室

电话:400-6699-117 转1000

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