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LSC-5000 (AD) 全自动兆声大基片湿法去胶系统

tel: 400-6699-117 1000

那诺-马斯特洗瓶机、清洗机, 最新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平,可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。

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技术特点

【技术特点】-- LSC-5000 (AD) 全自动兆声大基片湿法去胶系统


  • 支持450mm直径的圆片或15”x15”方片

  • 带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体

  • 带化学试剂滴胶的刷子转速可调节

  • 带LABVIEW软件的PC全自动控制

  • 触摸屏用户界面

  • 机械手上下载片,带EFEM以及SMIF界面

  • 安全互锁及警报装置

  • 30”D x 26”W 的占地面积  



【技术特点对用户带来的好处】-- LSC-5000 (AD) 全自动兆声大基片湿法去胶系统


【典型应用举例】-- LSC-5000 (AD) 全自动兆声大基片湿法去胶系统



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