技术特点
【技术特点】-- GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶,旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。
主要特点
1、设有真空表、溅射电流表,可实时监控工作状态。
2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀,控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体,以获得最佳镀膜效
果。
3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计,可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。
4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。
5、根据电场中气体电离特性,采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。
6、已通过CE认证。
可选配件
金、铟、银、铂等各种靶材
【技术特点对用户带来的好处】-- GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
【典型应用举例】-- GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
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