技术特点
【技术特点】-- VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
产品简介:VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸,且样品台的高度可以调节。此款镀膜仪设计主要是制作一些金属薄膜,最大制膜面积为4英寸。
产品型号 | VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪 |
主要特点 | 1、特别为SEM样品镀导电性薄膜设计。 2、体积小巧,操作简单,容易上手。 3、拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属。 |
可选 | 1、可在本公司选购各种靶材 对于溅射各种金属靶材,需要摸索最理想的溅射参数,下表是本公司实验所设置的参数,欢迎您带料来科晶实验室摸索工艺(仅供参考) 靶材种类真空度(Pa)溅射电流(mA) 时间 (s)溅射次数Au31-3328-301001Ag31281001
2、可在本公司选购各种真空泵
3、可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上
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质量认证 | CE认证 |
质保期
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一年保修,终身技术支持。 特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 |
使用提示
| l、有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜 2、在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 3、要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面 4、超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声,(2)异丙醇超声-去除油脂,(3)吹氮气干燥,(4)真空烘箱除去水分。 5、等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。 6、制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。 7、请使用>5N纯度氩气等离子体溅射 8、溅射镀膜机可以放入Ar或N2气体手套箱中溅射 9、由于能量低,该模型不适用于涂层的轻金属材料如Al,Mg,Zn,Ni。请考虑我们的磁控溅射镀膜机或热蒸发镀膜机。 超声波清洗机等离子清洗机大功率磁控溅射仪 蒸发镀膜仪 |
警告 |
注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。 气瓶上应安装减压阀(不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。 溅射头连接到高电压。 为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶头。 |
【技术特点对用户带来的好处】-- VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
【典型应用举例】-- VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
镀膜机
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