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技术特点
【技术特点】-- PCE-22-LD紫外臭氧清洗机
产品简介：PCE-22-LD紫外臭氧清洗机采用不需要任何溶剂的干式清洗技术，对清洗表面没有损伤。采用大功率低压石英汞灯，产生波长185nm和254nm的紫外线，185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的臭氧分子O3，254nm的光同时激发清洗表面的有机分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短，且同时也被254nm的光分解，因此可调节样品台到灯管的距离来优化性能。本机可用于去除石英、硅片、金、镍、铝、砷化镓、氧化铝等大多数无机基材上的有机污染物，提供了一种高效、精密的清洗方式，也是表面改性的一种非常重要的技术。可常用于扫描探测显微镜的样品，用于清洗原子力显微镜探针，扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无机材料，也能用来改变物体表面的疏水性，有助于部件和表面的化学改性，经过氧化和硬化处理的探针有利于在扫描过程中保持探针的几何形状，削尖的探针有利于提高侧向分辨率。
产品型号 | PCE-22-LD紫外臭氧清洗机 |
主要特点 | 1、可调节样品台与UV灯的距离。 2、采用长寿命的低压汞格栅灯，灯管寿命大约为5000h。 3、大功率低压石英汞灯使清洗只需3min-5min即可达到原子级洁净度，效率更高。 4、清洗腔体打开时自动关闭UV灯，避免对人体产生伤害，更加安全。 5、采用全不锈钢拉丝设计，更坚固美观。 6、采用控制与反应腔体一体化设计，美观且节省空间。 7、内置微电脑控制器，只需按动几下按钮即可完成清洗过程，操作简便。 8、提供客户化定制方案，可定制真空反应腔和加热样品台。 9、用于表面处理、有机物清洗、改善表面亲水性、降低表面接触角、增加表面附着力、增强表面功函数等。 |
产品规格 | 重量：28kg |
应用领域 | ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理，液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等有机物去除，有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。还能对特定材料进行表面改性，增加浸润性。 |
【技术特点对用户带来的好处】-- PCE-22-LD紫外臭氧清洗机
【典型应用举例】-- PCE-22-LD紫外臭氧清洗机
紫外臭氧清洗仪
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