技术参数 | 系统由真空腔室、旋转样品架、磁控溅射靶、铠装加热器、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统等各部分组成。 极限真空优于:5.0x10-5Pa(经烘烤除气后) 真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.0x10-4Pa; 停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa 1、 真空室腔体尺寸Ф300x350mm,手动上开盖辅助液压结构,前有一个观察窗,样品台可旋转内部连接铠装加热器、真空规、放气阀等各种规格的法兰接口,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面采用电解抛光处理。采用金属或氟橡胶圈密封。配备一体机柜标准电箱。 2、磁控溅射靶 靶材尺寸:Φ50mm(其中一个可以溅射磁性材料); 永磁靶一支、强磁靶一支:射频溅射与直流溅射兼容,靶内有水冷;配手动挡板。 2个靶可共同向下面的样品中心溅射,靶与样品距离90~110mm可调。 3、铠装加热样品: 加热区域为Φ100mmX100mm(H),基片加热最高温度 室温-600°C±1°C,由热电偶闭环反馈控制。 配有磁力转轴,电机驱动每分钟低于30转。 |
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