VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
tel: 400-6699-117 转 7739沈阳科晶其他包装业专用, VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、......
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产品型号: VTC-600- 2HD
品牌:沈阳科晶
产品产地:辽宁
产品类型:国产
原制造商:沈阳科晶
状态:在售
厂商指导价格: 10~15万元[人民币]
上市时间: 2014-03-04
英文名称: VTC-600- 2HD
优点:VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。
参考成交价格: 10~15万元[人民币]
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