GSL-PECVD-300化学气相沉积
tel: 400-6699-117 转 7739沈阳科晶其他, GSL-PECVD-300化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件,可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
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产品型号: GSL-PECVD-300
品牌:沈阳科晶
产品产地:辽宁
产品类型:国产
原制造商:沈阳科晶
状态:在售
厂商指导价格:未提供
上市时间: 2014-03-04
英文名称: GSL-PECVD-300
优点:GSL-PECVD-300化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件,可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
参考成交价格: 20~30万元[人民币]
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