GSL-CKJS-450-B1磁控溅射
tel: 400-6699-117 转 7739沈阳科晶其他, 高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。
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产品型号: GSL-CKJS-450-B1
品牌:沈阳科晶
产品产地:辽宁
产品类型:国产
原制造商:沈阳科晶
状态:在售
厂商指导价格:未提供
上市时间: 2014-03-05
英文名称: GSL-CKJS-450-B1
优点:高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。
参考成交价格: 5~10万元[人民币]
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