技术参数 | 1、主溅射室尺寸:?450×355mm筒形真空室 2、主溅射室真空度:5×10-5Pa 3、永磁靶3套,靶材尺寸φ2″,各靶射频与直流溅射兼容(其中1个靶可溅射铁磁材料),靶与样品距离90-110mm可调 4、三靶共溅,三个靶可共同折向样品中心,距离40-80mm可调 5、基片加热与水冷独立工作,加热炉可与水冷样品台可互换,加热工位最高温度 600℃±1℃ 6、样品尺寸:φ1″ 7、样品台可连续回转,转速5-15转/分 8、基片可加-200V负偏压 9、公转6工位样品台,可一次性安装6片φ1″基片,拆下水冷加热样品台可换上6工位样品台,其中5个工位为自然冷却工位,1个加热工位,加热工位温度 600℃±1℃ |
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