安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：设备配有自循环冷却水机，水温小于25℃，水压0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注纯净水或者去离子水）；

2、电：AC380V 50Hz，功率大于10KW，波动范围：小于±6％，必须有良好接地（对地电阻小于2Ω）；

3、气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备氮/氩气气瓶（自带?10mm双卡套接头）及减压阀

4、场地面积：设备尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上

5、通风装置：需要（外排废气管道）；

主要特点

1、由于电子束定位准确能量很高，可蒸发难熔金属或化合物，蒸发速率快；

2、体积小，操作简便可以非常容易的放置材料和清理；

3、蒸发材料放置在水冷铜坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜；

4、由于蒸发物面积小，因而热辐射损失小，热效率高；

基片参数

1、基片尺寸：可放置φ4″基片（带手动挡板）；

2、基片加热最高温度 800℃±1℃，由热电偶闭环反馈控制；

3、基片可连续回转，转速5～60转/分；

4、基片与蒸发源之间距离300～350mm可调；

电子束蒸发源参数

1、E型电子枪，阳极电压6KV、8KV；
2、电子枪坩埚：水冷铜坩埚，四穴设计，每个熔炼11ml ；
3、电子束功率0-6KW可调；

真空腔体

1、U型真空室尺寸Ф500X600mm，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；

2、真空腔体前开门铰链结构，方便取、放样品；

3、前开门设有两个观察窗接口，可以观察电子枪和基片；

4、设备预留膜厚仪接口，可选配膜厚仪；

5、高真空分子泵机组，闸板阀隔断（也可使用高真空挡板阀）；

产品规格

整机尺寸：1800mm×1200mm×2000mm；

标准配件

1

电源控制系统

1套

2

真空获得机组

1套

3

真空测量

1套

4

电子枪

1套