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1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD

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沈阳科晶其他包装业专用, 1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD可安装直径为1"的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,因此可溅射各种靶材(如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。且采用高真空的结构设计,可提高镀膜质量。

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技术特点

【技术特点】-- 1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD

产品简介:1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD可安装直径为1“的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,因此可溅射各种靶材(如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。且采用高真空的结构设计,可提高镀膜质量。

 

 

产品型号

1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD

主要特点

1、采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作。

2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均匀分布。

3、磁体表面涂有保护层,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命。

4、标准的HN型接头,可与DC和RF电源相匹配。

5、安装采用标准真空接头,便于操作。

6、靶材更换较为简单,无需调整溅射头的高度。

7、配有铜靶1块。

产品规格

尺寸:14“(355.6mm);重量:1.36kg

可选配件

1、循环水冷机,流量为16L/min,水箱容积为6L。

2、100W小型手动匹配型射频电源RF-100-LD,可自行搭建溅射镀膜仪。

主要应用

在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜,应用如下:

薄膜涂覆、半导体器件、磁记录介质、超导薄膜、量子计算器件、MEMS、生物传感器、纳米技术、超晶格、颗粒膜、记忆合金、组合薄膜沉积、光学薄膜



【技术特点对用户带来的好处】-- 1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD


【典型应用举例】-- 1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD



厂家资料

地址:沈阳市浑南新区学风路26-2-7号5门 精密仪器工业园

电话:400-6699-117 转 7739

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