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小型粉末PVD包覆系统

tel: 400-6699-117 7739

沈阳科晶其他, 可对粉体材料进行表面包覆:采用磁控溅射,溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚,达到粉体表面均匀包覆

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技术参数

1、输入电压:220 VAC 50/60Hz

2、电源输出:1600 VDC 250 W

3、最大电流:150 mA .

4、溅射头:2英寸角度可调节溅射头

5、振动样品台:

样品台振动频率可调节:6-33Hz

样品台直径为50mm

建议样品量: < 500 mg

建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um

石英腔体尺寸:165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H

6、真空度:

①1.0E-2 Torr(采用机械泵),可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶

② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶最大真空度可达到< 4.0E-6 Torr(分子泵系统抽时间12小时,腔体进行烘烤)

7、CE认证


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