【技术特点】-- 日本电子 JIB-4600F 聚焦离子束

主要特点：

? 浸没式热场发射电子枪

提供高稳定的电子束束流,与最佳光栏角控制透镜配合获得高分辨图像. 

? 电子束大电流高速分析

电子束最大束流强度200nA 

? 离子束大电流模式 

加工速度很快 

? 实时监控加工过程

通过扫描电镜图像可以实时监控加工过程，提高了内部结构分析和获得TEM用薄膜样品的效率。

? 扩展性极强 

大样品台最大装样直径50mm，并且可以同时安装EDS, EBSD, and CLD等探头

技术参数：

FIB 

离子源：Ga（镓）液态金属离子源

保证分辨率： 5 nm 以下(加速电压 30 kV)

加速电压： 5 to 30 kV

放大倍数： x30 (广域)

x100 - x300,000

最大束流：30 nA 

SEM

浸没式热场发射电子枪 

保证分辨率： 1.2 nm (电压 30 kV)

加速电压： 0.2 to 30 kV

放大倍数：x50 - x1,000,000

最大束流： 200 nA 

样品台移动范围： X:50mm , Y:50mm , Z:1.5～40mm , T:－5～70° , R:360°

【技术特点对用户带来的好处】-- 日本电子 JIB-4600F 聚焦离子束

【典型应用举例】-- 日本电子 JIB-4600F 聚焦离子束