技术特点
【技术特点】-- 4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV
4“高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4“石英管及高真空系统(机械泵+分子泵), 是专为半导体或太阳能电池基片(最大3“)的退火而设计。本机采用10KW红外灯管加热,最快升温速度为50℃/s,设有30段温度控制,精度为±1℃。此外,通过RS485口和控制软件可在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。
控温仪表操作视频
产品型号 | 4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV |
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水) 2、电:AC380V 50Hz(63A空气开关),必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带6mm双卡套接头) 4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通风装置:需要 |
主要特点 | 1、石英样品架固定在滑动法兰上,使样品装载更加容易。 2、样品架上放置76mm的AlN基片,承载需要退火的样品。AIN具有很高的热导率,可使样品放置的区域有很好的温度均匀性(±5℃)。 3、内插式热偶保证了温度的准确性。 4、采用PID自动温度控制,30段程序,并设有过热和断偶保护功能。 5、已通过CE认证。 |
产品规格 | 炉体:尺寸760mm×330mm×530mm,重量50kg 高真空系统:尺寸:600mm×600mm×700mm,重量18kg |
【技术特点对用户带来的好处】-- 4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV
【典型应用举例】-- 4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV
经销商
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