技术参数

1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为600×450×450mm，不锈钢材料，方形前后开门结构，内带有防污板。
2、抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统：
   真空度：镀膜室的极限真空≤6×10-4Pa；
   系统漏率≤1×10-7PaL/s。

3、蒸发源系统：
   有机源蒸发源4个，容积5ml，2台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw；
   挡板：蒸发源挡板采用自动磁力控制方式，控制其开启；
   安装：蒸发源安装在真空室的下底上。

4、样品架系统：
样品架可放置大小为Φ120mm的样品，载玻片；

样品架可旋转，旋转速度为：0～30转/分；
安装：样品安装在真空室的上盖上，蒸发源安装在真空室的下盖上，向上蒸发镀膜，蒸发源都带有挡板装置。

7、 5、无机蒸发源2套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2Kw；
8、 6、石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?。