德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE

Etchlab 200

RIE plasma etcher

Open lid

For up to 200?mm wafers

Diagnostic windows for laserinterferometer and OES

Ellipsometer ports optionally available

RIE等离子体刻蚀机

打开盖子

适用于200毫米晶圆

激光干涉仪和OES诊断窗口

椭圆偏振计端口可选

Etchlab 200 with loadlock
带有loadlock的Etchlab 200

RIE etcher with loadlock

For 4?inch up to 8?inch wafers

Carriers for pieces and smaller wafers

Chlorine etching chemistry

Larger pumping unit

带有loadlock的RIE蚀刻器

适用于4英寸到8英寸的晶圆片

片材和较小晶圆片的载体

氯腐蚀化学

更大的抽油机
 

Etchlab 200 ～ 300

RIE plasma etcher

Open lid

For up to 300?mm wafers

Diagnostic windows for laser interferometer and OES

RIE等离子体刻蚀机

打开盖子

可用于300毫米晶圆

激光干涉仪和光学系统诊断窗口