Etchlab 200
RIE等离子蚀刻机
开盖设计
适用于200mm的晶片
用于激光干涉仪和OES的诊断窗口
选配椭偏仪接口
带真空室的 Etchlab 200
带预真空室的RIE刻蚀机
适用于4英寸到8英寸的晶片
小片或碎片的载片器
氯基刻蚀气体
更大的真空泵组
Etchlab 200-300
RIE等离子蚀刻机
开盖设计
适用于300mm的晶片
用于激光干涉仪和OES的诊断窗口
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