美国考夫曼公司 KRI 离子源主要应用于
1.光学镀膜 OC(Optical Coating )
推荐霍尔离子源 eH 200,eH 400,eH 1000,eH 5000F
2.离子源助镀 IBAD (Ion Beam Assisted Deposition)
推荐霍尔离子源 eH 1010F,eH 1020F
3.离子溅镀 IBSD (Ion Beam Sputter Deposition)
推荐考夫曼离子源 RFICP 40,RFICP 100,RFICP 300;KDC 10,KDC 40,KDC 75
4.离子刻蚀 IBE (Ion Beam Etching)
考夫曼离子源 RFICP 40,RFICP 100,RFICP 140,RFICP 200,RFICP 300
上海伯东依据客户实际需要提供完整真空应用解决方案,如真空泵选型销售(德国普发 Pfeiffer 机械泵,分子泵;美国 Polycold 低温泵),真空系统检漏(德国普发 Pfeiffer 氦质谱检漏仪),真空阀门选配(美国 HVA超高真空阀门,德国普发 Pfeiffer 真空阀门),蒸镀源选型(美国考夫曼公司 KRI 离子源)等等.
上海伯东主要经营产品:德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵,干式真空泵,罗茨真空泵,旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空计,真空规管; 氦质谱检漏仪,质谱分析仪,四级杆质谱仪;以及美国 HVA 真空阀门, Polycold冷冻机,Gamma 离子泵和美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪 霍尔源
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