AT-400 原子层沉积
tel: 400-6699-117 转 1000ANRIC镀膜机, 原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在......
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产品型号: AT-400
品牌:ANRIC
产品产地:美国
产品类型:进口
原制造商:ANRIC
状态:在售
厂商指导价格: 30~50万元[人民币]
上市时间: 2013-08-12
英文名称: AT-400
优点:原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的“纳米”技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。
参考成交价格: 30~50万元[人民币]
镀膜机
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