PHI 5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针

PHI5000 VersaProbeIII是PHI扫描XPS微探针设备最新产品,应用了PHI业界领先的zl扫描X-射线技术和zl双束中和技术，成为更高水平的多功能分析仪器。

最新技术：

l  新的分析器输入透镜,将灵敏度提高了两到三倍。

l  新的多通道探测器使得元素和化学态成像速度更快。

l  新的变角分析技术（ADXPS）收集角可达+/-5°,改善深度分辨率。

l  冷热样品台的温度范围得到提高,-140℃到+600℃。

l  新的加热专用样品托可加热至800℃。

l  新的四点电触式冷热样品台可对样品进行原位通电和加热冷却实验。

l  新设计的紫外光电子能谱UPS可自动点火和输送气体。

l  经过改善的俄歇SAM技术提供了更高的灵敏度和更好的信噪比，可同时进行REELS分析。

原位低能反光电子能谱 (LEIPS) 可在较低电子能量下（对材料无损伤）测试样品的导带信息。

PHI5000 Versaprobe III主要特征和功能：

1.  微聚焦的扫描X射线束可应对从微区到大面积的分析需求。

2.  高可靠全自动分析能力,可实现无人值守式队列分析。

3.  微区成像和图谱采集,可同时高效对多个微区进行对比分析。

4.  溅射深度剖析,可分析膜层结构和成分深度变化。

5.  多种技术联用的超高真空分析腔室,可扩展UPS、IPES、AES、C60、GCIB等多种技术。

6.  智能用户操作界面（SmartSoft-VersaProbe）。

7.  数据处理软件(MultiPak)。

扫描聚集X-射线技术是Versaprobe III的核心技术,也是PHI公司的zl技术。单色、扫描、聚      集X-射线源可以更好地分析微观及宏观区域,全部的X射线设定（包括束斑直径小于10μm的设定）    都能用于采谱分析,深度剖析和影像分析。具体表现如下：

 1.  微聚焦的扫描X射线束。

 2.  X射线束用于二次电子成像。

 3.  XPS成分影像的每个像素点都可用于化学分析。

 4.  单点或多点采谱分析。

 5.  单点或多点薄膜分析。

微区分析

极佳的微区分析功能：

1.   鼠标点击定义分析区域。

2.   强大的Z轴自动校准功能。

3.   一键双束中和功能。

4.   在自动分析队列中,无须样品导电性。

深度剖析的优势：

优化结构设计；

微聚焦X射线束；

灵敏度更高的分析器；

高效的离子枪；

独特的双束中和功能；

带Zalar Rotation™功能的样品台；

微区的深度剖析功能；

多点的深度剖析功能。

1、无机物深度剖析：离子枪的工作电压在0-5KeV范围内可调。配有低电压的浮动电位,可用于超薄      薄膜的深度分析。独特设计的枪体弯曲结构可自动屏蔽中性的氩原子。