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光刻机

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Ecopia半导体专用检测仪器设备, 光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商......

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- 掩模尺寸:最大7英寸;

- 样品尺寸:最大6英寸;

- 卡盘移动:X,Y,Z,Theta轴手动,楔形补偿调平;

- 紫外光源:6.25“ X 6.25“;

- 光源功率:350瓦紫外灯;

- 光源均匀性:<+/-3%;

- 光源365nm波长强度:最大30毫瓦;

- 显微镜:双显微镜系统;

- 显微镜移动:X,Y,Z轴手动调节;

- 显微镜物镜空间:50-150mm;

- 标配放大倍率:80X-400X;

- 显示器:20“ LCD;

- 曝光时间:0.1-999秒;

- 接触模式:真空接触,硬接触,软接触,接近接触(距离可调);

- 对准精度:1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode);

- 电源:220V,单相,15安培;







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地址:上海市松花江路251弄白玉兰环保广场7号

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