AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征

RIE，PECVD，和等离子刻蚀PE都能在一个易操作，低维护，实用简单的平台上实现，同时可以根据您的工艺要求升级您的需求

当您需要更换工艺技术是，腔体的部件，材料，进气装置提供更多的工艺扩展

AGS依靠公司丰富的经验为新工艺开发提供低成本的先进的技术资源便于提前研发先进的领域技术

桌面式，占地面积小，节省实验室空间

工艺控制简单，易于使用者操作

兼容等离子刻蚀PE和PECVD，成本低