【技术特点】-- SSP-1000桌面型磁控溅射系统

       由于配备了RF电源，不仅可以溅射金属靶，而且可以溅射诸如Al2O3或SiO2等陶瓷靶材。这种系统设计紧凑，成本低，可用于各种实验。

-多样性-

        由于采用立方体设计，通过简单变化即可选择溅射方向。

        也可以使用磁性靶材（可选）。

        标配1路工艺气体，可配置2路工艺气体。

        紧凑的台式设备，易于安装。

        腔室内安装有一个观察口。

        配备阴极保护板以防止在预关闭期间基板的污染。

        与阴极保护板一起工作的溅射计时器用于厚度控制。

【技术特点对用户带来的好处】-- SSP-1000桌面型磁控溅射系统

【典型应用举例】-- SSP-1000桌面型磁控溅射系统