技术特点
【技术特点】-- SAL1000G ALD原子层沉积系统
· 真空可移动的手套箱可以处理易氧化的样品。
· 前驱体标配两组阀门和气瓶。
· 可选择将前驱体加热至200摄氏度。
· 可选择基片自动旋转支架。
· 可选择粉体沉积配件。
· 可选择经济实惠的废气处理设备。
· 触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程,并检查每个驱动系统的运动。
· 可进行自动沉积,并在沉积完成后自动完成N2排放。
· 手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。
【技术特点对用户带来的好处】-- SAL1000G ALD原子层沉积系统
【典型应用举例】-- SAL1000G ALD原子层沉积系统
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原子层沉积系统(ALD)
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