技术特点
【技术特点】-- 瞬渺镀膜机 SiNx-PECVD
用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVS
Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells
Throughput: >475 wafers/hr
SiNx uniformity: < ?5%
产率:>475硅片/小时。
氮化硅膜不均匀性:< 5%。
【技术特点对用户带来的好处】-- 瞬渺镀膜机 SiNx-PECVD
【典型应用举例】-- 瞬渺镀膜机 SiNx-PECVD
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