技术特点
【技术特点】-- 全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000
产品特点
液晶显示屏简便操作
自动抽真空做样
自动放气
溅射电流范围大
溅射效率高
颗粒度小
样品表面无温升
适用温度敏感性样品
应用领域
场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备
技术指标
工作方式:全自动磁控
溅射电流:5-45mA
靶材:金、铂(标配、二选一)
溅射电压:600V
真空泵:油封式旋片泵1L/s(可选配涡旋干泵)
真空度:<1Pa
产品特性
本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极材料研究等领域,液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升,适用温度敏感性样品等特点,可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。
【技术特点对用户带来的好处】-- 全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000
【典型应用举例】-- 全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000
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离子溅射仪
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