莎姆克RIE-200iP ICP Plasma Etching Systems (ICP-RIE)高密度等离子刻蚀机

产品型号：莎姆克RIE-200iP

品牌：莎姆克

产品产地：日本

产品类型：进口

原制造商：莎姆克股份有限公司 Samco Inc.

状态：在售

厂商指导价格： 6000万元[日元]

上市时间： 2012年

英文名称：High density plasma etching machine

优点：莎姆克的RIE-200iP是专为研发及半量产目的设计的搬送室型设备。它备有莎姆克的zl龙卷风ICP电极，可产生稳定及高密度的等离子体，并达到高选择比、高精确度和优秀的均匀度。另外，RIE-200iP也具有莎姆克独创的多方排气系统可供应稳定均匀的气体至晶片。