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莎姆克RIE-200iP ICP Plasma Etching Systems (ICP-RIE)高密度等离子刻蚀机

tel: 400-6699-117 1000

莎姆克电子束刻蚀, 莎姆克的RIE-200iP是专为研发及半量产目的设计的搬送室型设备。它备有莎姆克的zl龙卷风ICP电极,可产生稳定及高密......

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特征

  • zei大可处理6英寸晶片

  • 搬送室设计允许使用氯系气体

  • 可调节晶片温度(氦气冷却)

  • zl龙卷风ICP电极

  • 多方排气系统可改善均匀度和效能

  • 可循环进行金属刻蚀

  • 工艺配方储存及数据资料记录

  • 小体积及全功能设计


尺寸

本体: 1000(W) x 1100(D) x 1604(H) mm

真空泵: 700(W) x 480(D) x 513(H) mm


厂家资料

地址:上海市延安西路129号 上海华侨大厦1410室

电话:400-6699-117 转 1000

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