功能介绍

1、可测定各种有色金属的各种元素,适用于多种金属基体，如：铝基、铜基、锌基。全谱技术覆盖了全元素分析范围，可根据客户需要选择通道元素；

2、分析速度快捷，20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及标线，使仪器用醉短的时间达到醉优的分析效果；

3、光学系统采用恒温光室，激发时产生的弧焰由透镜直接导入光室，实现光路直通,消除了光路损耗，提高检出限，测定结果准确，重现性及长期稳定性较佳；

4、特殊的光室结构设计，体积小、重量轻；

5、自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线，与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定；

6、开放式的电及架设计，可以调整的样品夹，便于各种形状和尺寸的样品分析；

7、工作曲线采用国际标样，预做工作曲线，可根据需要延伸及扩展范围，每条曲线由多达几十块标样激发生成，自动扣除干扰；

8、HEPS数字化固态光源，适应各种不同材料 ；

9、铜火花台底座，提高散热性及坚固性能；

10、合理的氩气气路设计，使样品激发时氩气冲洗时间缩短，为用户节省氩气，氩气消耗不到普通光谱仪的一半；

11、采用钨材料电及，电及使用寿命更长，并设计了电及自吹扫功能，清洁电及更加容易；

12、高性能DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况；

13、与计算机之间采用以太网连接，抗干扰性能好，外部计算机升级与仪器配置无关，使仪器具有更好的适用性；

14、核心器件全部原装进口，保证了仪器的品质。

技术参数

1、光学系统

光学结构：平场型光学系统

光室温度：自动控制恒温：35℃±0.5℃

波长范围：200-500nm

光栅焦距：350 mm

光谱宽度：25.4mm

探测器：高性能线阵CCD

2、激发台

气体：冲氩式

氩气流量：激发时3-5L/min， 待机时:无须待机流量

电及：钨材喷射电及技术

吹扫：点击自吹扫功能

补偿：热变形自补偿设计

分析间隙：样品台分析间隙：4mm

3、激发光源

类型：HEPS数字化固态光源

频率：100-1000Hz

放电电流：1-80A

特殊技术：放电参数优化设计

预燃：高能预燃技术

4、数据采集系统

处理器：高性能ARM处理器，高速数据同步采集处理

接口：基于DM9000A的以太数据传输

5、电源与环境要求

输入：220VAC 50Hz

功率：分析时醉大700W，待机状态40W

工作温度：10-30℃（该温度范围内温度变化不大于5℃/h）

工作湿度：20-80%

6、尺寸与重量

主机尺寸：500*450*300mm

重量：30Kg