技术特点
【技术特点】-- 日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统
JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。
产品特点:
JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。
zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统
利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。
【技术特点对用户带来的好处】-- 日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统
【典型应用举例】-- 日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统
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