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BS-80011BPG产生高密度等离子体的内置型等离子体枪

tel: 400-6699-117 6205

日本电子电子束刻蚀, 安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外,还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。

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技术规格:

  • Maximum plasma output zei大等离子体输出: 6kW (160V, 38A)

  • Operating pressure 操控压力: 1×10-2 to 1×10-1Pa (Ar, O2, N2 atmosphere)

  • Discharge gas(Ar) 放电气体(氩气): 8 to 20mL/min

  • Cooling water 冷却水流速: 7 to 10L/min

  • Beam method电子束方法 :反射电子束和辐射电子束可选selectable from Reflection-beam and Irradiation-beam




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